ヒドロキシエチリデンジホスホン酸 - HEDPの製品特性と用途

HEDP(ヒドロキシエチリデン ジホスホン酸) は有機リン酸および腐食防止剤であり、鉄、銅、亜鉛およびその他の金属イオンと安定した錯化剤を形成し、金属表面の酸化物を溶解します。 HEDP は 250°C でも腐食とスケールの抑制に優れた役割を果たし、高い pH 値でも非常に安定しており、加水分解されにくく、一般的な光と熱の条件下でも分解しにくいです。他の有機リン酸（塩）に比べ、耐酸・耐アルカリ性、耐塩素酸化性に優れています。 HEDP は水中の金属イオン、特にカルシウムイオンと六環キレートを形成することができるため、HEDP 酸には優れたスケール抑制効果と明らかな溶解度制限効果があります。他の水処理剤と併用すると理想的な相乗効果を発揮します。

HEDPソリッドは高純度製品であり、厳寒地の冬に適しています。特にエレクトロニクス産業における洗浄剤や日常的な化学添加物に適しています。

1. ヒドロキシエチリデン ジホスホン酸は、ボイラーおよび熱交換器のスケールおよび腐食防止剤、非シアン化物電気めっきの錯化剤、石鹸のキレート剤、および金属および非金属の洗浄剤です。

2. ヒドロキシエチリデン ジホスホン酸は、ボイラー水、循環水、および油田注水の処理におけるスケールおよび腐食防止剤としてよく使用されます。ポリヒドロキシ酸スケール防止剤や分散剤が配合されることが多いです。また、非シアン化物電気メッキ用の錯化剤、漂白および染色産業用の定着剤、過酸化水素安定剤としても使用できます。

3. ヒドロキシエチリデン ジホスホン酸は、非シアン化物電気めっきの主な材料です。非シアン化銅電気めっき液に配合されており、鋼への直接銅電気めっき層の結合力は良好です。塗装も滑らかで発色も良好です。一般的な使用量は60%、内容量は100～120ml/Lです。硫酸銅の量は15〜20g/Lです。また、電気めっきを行う前に、本品の1～2％溶液にめっき部分を浸漬し、めっき部分を活性状態にして電気めっきを行うと効果が向上します。

4. ヒドロキシエチリデン ジホスホン酸は、新しいタイプの非塩素系電気めっき錯化剤として使用され、循環冷却水系の水質安定の主剤として使用され、腐食やスケールの抑制に効果があります。この製品は、有機および非ホスホン酸フリーのウォーターシート剤の 1 つです。この種の製品には他にも、アミノ トリメチレン ホスホン酸 (ATMP): [CH2PO(OH)2]3N、エチル ジアミン テトラメチレンリン酸 (EDTMP) など、中国で製造されている種類がいくつかあります。有機ポリホスホン酸は、1960年代後半に開発され、1970年代頃に確認された水処理剤の一種です。このタイプの処理剤の登場により、ウォーターシーティング技術は大きく前進しました。有機ポリリン酸塩と比較して、有機ポリホスホン酸は化学的安定性に優れ、加水分解しにくく、高温や少量の使用量に耐えることができ、防汚性能の特性を備えています。これは、陰極タイプの腐食防止剤の一種であり、非化学的等価スケール防止剤の一種です。

5. スケール防止剤としての一般的な使用濃度は1~10mg/L、腐食防止剤としての一般的な使用濃度は10~50mg/Lです。洗浄剤としての一般的な使用濃度は1000~2000mg/Lです。通常はポリカルボン酸系スケール防止剤や分散剤と併用して使用されます。